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    真空鉬絲爐

    真空鉬絲爐

    簡要描述: 真空鉬絲爐用途:適用于電子陶瓷與高溫結構陶瓷的燒結、玻璃的精密退火與微晶化、晶體的精密退火、陶瓷釉料制備、粉末冶金、納米材料的燒結、金屬零件淬火及一切需快速升溫工藝要求的熱處理,是科研單位、高等院校、工礦企業理想的實驗和生產設備

    • 生產地址:上海
    • 廠商性質:生產廠家
    • 更新時間:2024-10-16
    • 訪  問  量:2441
    詳細介紹

    真空鉬絲爐的詳細介紹

    真空鉬絲爐具有*的性能設計,集多項于一身,安全性,可靠性,實用性均達*效果。

    一、特點及用途

    實驗室熱處理爐,底部裝料,操作方便,占地小,真空或充氣兩用。適用于金屬材料高溫燒結、熱處理、脫氣、金屬陶瓷化、粉末燒結、熒光粉等處理。也適用于無機非金屬材料的高溫燒結等處理。還適用于材料的真空釬焊處理。

    二、真空鉬絲爐結構說明

    1.全不銹鋼結構,外表亞光處理,內部精密拋光處理。

    2.底裝料式,操作方便。

    3.結構爐體,結構電極,技術。

    4.擴散泵+直聯式機械泵+高真空全不銹鋼擋板閥性能可靠。

    5.底部可移動式結構,搬運方便。

    6.金屬鉬絲加熱,全金屬隔熱屏,無碳污染問題,*技術使用不變形。

    7.極限真空度達到1×10-3Pa

     

     

     GR.VMWF系列真空鉬絲爐型號及規格

     

    型號

    爐膛尺寸(mm)

    (DxH)

    功率

    (KW)

    zui高溫度

    ℃)

    額度溫度

    (℃)

    加熱元件

    電壓

    (V

    GR.VMWF8/17

    Ф80×100

    25

    1700

    1650

    鉬絲

    380

    GR.VMWF15/17

    Ф150×200

    30

    1700

    1650

    鉬絲

    380

    GR.VMWF20/17

    Ф200×300

    36

    1700

    1650

    鉬絲

    380

    GR.VMWF30/17

    Ф300×400

    40

    1700

    1550

    鉬絲

    380

     

    ,咨詢

     

    另:我公司可以根據客戶具體要求進行非標設計與制造。

     

     

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